Idrossido di tetrametilammonio (TMAH) CAS 75-59-2 (soluzione acquosa al 25%)
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| Nome chimico | Idrossido di tetrametilammonio (soluzione acquosa al 25%) |
| Sinonimi | TMAH (soluzione acquosa al 25%); N,N,N-idrossido di trimetilmetanamminio |
| Numero CAS | 75-59-2 |
| Stato delle scorte | Disponibile, la produzione scala fino a tonnellate |
| Formula molecolare | (CH3)4NOH |
| Peso Molecolare | 91.15 |
| Punto di Boling | 110℃ |
| Punto di infiammabilità | 6℃ |
| Densità | 1.016 (25% aq.) |
| Indice di rifrazione (N20/D) | 1.378~1.384 |
| Solubilità in acqua | Solubile in acqua |
| Odore | Ammoniaca forte - Come l'odore |
| Stabilità | Stabile. Infiammabile. Incompatibile con forti agenti ossidanti, acidi forti |
| Avvertenza di pericolo | Altamente tossico! Liquido infiammabile! |
| Marchio | Ruifu chimica |
| Articolo | Specifiche |
| Aspetto | Liquido incolore |
| Analisi | 24,5~25,5% (analisi mediante titolazione) |
| Cloruro | <500 ppm |
| Potassio (K) | <5 ppm |
| Sodio (Na) | <5 ppm |
| Colore | <50APHA |
| Indice di rifrazione n20/D | 1.378~1.384 |
| Spettro infrarosso | Conforme alla struttura |
| Prova standard | Standard aziendale |
Pacchetto: 25 kg/tamburo, o in base alle esigenze del cliente.
Condizioni di conservazione:Conservare in contenitori sigillati in luogo fresco e asciutto; Proteggere dalla luce e dall'umidità.
Simboli di pericolo T - Tossico
C- Corrosivo
Codici di rischio
R20/21/22 - Nocivo per inalazione, contatto con la pelle e per ingestione.
R34- Provoca ustioni
Descrizione di sicurezza
S26 - In caso di contatto con gli occhi, lavare immediatamente e abbondantemente con acqua e consultare un medico.
S36/37/39 - Indossare indumenti protettivi adatti, guanti e proteggersi gli occhi/il viso.
S45 - In caso di incidente o di malessere consultare immediatamente il medico (mostrare l'etichetta quando possibile).
ID ONU ONU 1835
WGK Germania 1
RTECS PA0875000
CODICI FLUKA MARCHIO F 4.4-10-34
TSCA Sì
Codice HS 2923900090
Classe di pericolo 3
Gruppo di imballaggio II
L'idrossido di tetrametilammonio (TMAH) (CAS: 75-59-2) è un sale di ammonio quaternario generalmente utilizzato come agente di attacco anisotropo per il silicio grazie alla sua elevata velocità di attacco del silicio, solvente di base nello sviluppo di fotoresist acido nel processo di fotolitografia, come tensioattivo nella sintesi del ferrofluido e come reagente polarografico. Trova applicazione nella produzione di silicio organico, dove viene utilizzato per lucidare e pulire la superficie dei wafer di silicio dei computer. Interviene anche nella purificazione di alcuni elementi metallici.
